真空技術(shù)與新型永磁材料

新型永磁材料釹、鐵、硼（Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ）是１９８３年出現(xiàn)的第三代稀土永磁材料，它的磁能積比釤－鈷（ＳｍＣＯ２）永磁合金高一倍，比鋁鎳鈷（Ａｉ－Ｎｉ－Ｃｏ）ＧＡＯ　６～７倍，比鐵氧體高十幾倍，因而引起磁學(xué)界極大的關(guān)注和制造廠用戶(hù)的濃厚興趣。由于我國(guó)釹儲(chǔ)量占世界總儲(chǔ)量的８０％，因此大力開(kāi)發(fā)釹鐵硼永磁材料的研究和生產(chǎn)油淬真空爐、氣淬真空爐、真空回火爐、退火真空爐，具有廣闊的前景和重要的經(jīng)濟(jì)價(jià)值。

釹是化學(xué)性極為活潑的元素，因此釹鐵硼永磁材料的真?zhèn)€制作工藝幾乎全部在無(wú)氧的真空環(huán)境下進(jìn)行。首先是制備成份合適的母合金，其有效的制備工藝就是真空熔煉。將合金變成粉末也必須在無(wú)氧條件下進(jìn)行，就以機(jī)械破碎而言，離不開(kāi)密封技術(shù)。氣流粉碎則以真空密封系統(tǒng)為基礎(chǔ)，附加一系列專(zhuān)用機(jī)構(gòu)。磁體的燒結(jié)、熱處理更必須在真空或保護(hù)氣氛下進(jìn)行。Z后磁體表面涂層也用到了真空浸漬或離子鍍技術(shù)。

在高緯度的溫帶和寒冷地區(qū)，如果采用沒(méi)有鍍膜的雙層中空玻璃，室內(nèi)的能量其中有８０％是通過(guò)玻璃而傳輸?shù)绞彝?。如在雙層中空玻璃的內(nèi)側(cè)一表面鍍上低輻射膜，熱量傳輸損失可降低到４０％。這類(lèi)低輻射膜比較理想的是氧化銦錫膜，其可見(jiàn)光透過(guò)率約為７５％，紅外反射率達(dá)９０％。

除了上述的遮陽(yáng)膜和隔熱膜外，還有一種“遮陽(yáng)和隔熱兼有“的膜層，這類(lèi)膜的材料可采用金、銀、銅這三類(lèi)有選擇的金屬，一般是將金屬夾在二層氧化物之間，一改進(jìn)附著強(qiáng)度和保護(hù)金屬鍍層。他繞在可見(jiàn)光范圍有較高的透過(guò)率，在紅外范圍內(nèi)又有較高的反射率。

Z近國(guó)外又研制成汽車(chē)風(fēng)擋玻璃的夾層導(dǎo)電膜，這種夾層模式有上下二層保護(hù)性透明氧化膜和中間一層低電阻的金屬膜所組成，其薄膜電阻是４～４ . ５歐姆／塊，可見(jiàn)光透過(guò)率７５％以上，當(dāng)通電后能在－１７　的氣溫下降３毫米冰層在２分鐘內(nèi)溶化完。

    再鍍膜工藝方面，上述幾種不同功能的玻璃都是采用磁空間設(shè)計(jì)數(shù)來(lái)制作。由于磁控濺射法操作簡(jiǎn)單可控、鍍層均勻、重復(fù)性良好，所以真空鍍膜建筑玻璃已進(jìn)入工業(yè)生產(chǎn)階段。